来源：中国知识产权报
近日，国务院公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》，自 2026 年 10 月 15 日起施行。这是该条例自 2001 年实施以来的首次全面修订。修订旨在保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术创新，促进科学技术发展。本次修订如何解决实践需求，进一步加强集成电路布图设计的保护与运用，并做好与相关法律法规的衔接？本期专题邀请两位专家深入解读修订亮点，探讨集成电路布图设计保护制度的新发展趋势。
集成电路布图设计独创性声明制度
李顺德 中国社会科学院法学研究所
本次修订的亮点之一，是增设独创性声明要求。独创性声明是修订后的条例新增的法定申请文件，也是办理布图设计登记必须提交的材料之一。简单来说，独创性声明将抽象的独创性判断标准转化为可审查、可作为证据使用的书面文件。在登记申请时一并提交后，该文件纳入官方档案，成为判定布图设计是否满足独创性要求的核心书证。
集成电路布图设计独创性声明制度的设立，是我国该领域保护制度的一项重要完善，其意义体现在以下方面：
第一，提升布图设计登记制度的确定性。独创性声明要求权利人在登记阶段明确标示布图设计中的独创部分，大幅提高布图设计保护范围的确定性。它在登记环节即固定权利人的权利主张，有助于防止权利人在后续程序中随意扩大保护范围，为独创性认定提供更为清晰的判断标准。此外，独创性声明作为法定申请文件，督促申请人依法行使权利，增强登记制度的稳定性。总体而言，独创性声明使权利边界更加清晰，有助于解决保护范围认定难的问题，在维护权利人合法权益的同时，更好地平衡权利人与社会公众之间的利益。
第二，强化源头保护，降低确权、维权与运用环节成本，提升整体效能。在确权阶段，申请人需要投入时间精力撰写独创性声明，可能产生外部律师或内部法务的额外成本。但布图设计的独创部分在登记阶段即予以固定，为权利奠定更为坚实的基础，有效降低登记被撤销带来的风险成本。在维权阶段，该制度能够减少举证、聘请专家评估以界定保护范围的成本，显著提升侵权纠纷处置效率。同时，结合诚实信用原则与惩罚性赔偿制度，可以防止权利人利用模糊的权利边界引诱他人侵权后再索赔，或是提起滥用诉讼，提高侵权成本，从源头遏制侵权行为。独创性声明能够让受让人、被许可方在布图设计转让、许可、质押过程中更清晰评估权利的实际技术价值与边界，降低尽职调查成本。该制度还可减少权属争议与谈判摩擦，降低商业合作中的沟通与磋商成本。
我国集成电路布图设计保护制度的重大修订
黄蕴华 国家工业信息安全发展研究中心知识产权所
本次条例修订涉及多个方面，包括扩大保护范围、完善登记程序、提高侵权赔偿额度、促进布图设计转化运用等。其中最重大的修改，是将 “集成光子、量子等功能的集成电路布图设计” 纳入条例法定保护范围，破解新型集成电路知识产权保护难题。
2001 年《条例》颁布时，立足当时产业发展实际并借鉴国际立法经验，保护对象聚焦用于电子传输、电子运算的传统集成电路布图设计。如今，传统集成电路的晶体管制程已逼近技术与物理极限，光子、量子等颠覆性技术持续涌现，推动产业进入后摩尔时代；新架构、新机理、新材料、新器件成为竞争焦点。修订后的条例将集成光子、量子等功能的集成电路布图设计纳入保护范畴，是对集成电路技术发展态势的精准把握与主动应对。
修订后的条例为新型集成电路布图设计提供全面保护。尽管此前实践中已通过个案审查对新型集成电路布图设计予以保护，但技术快速迭代使得集成电路器件定性愈发模糊，功能载体日趋多元。集成电路技术层面宽泛定义与法律层面窄口径界定之间的矛盾不断凸显，不可避免带来确权法律依据不足、行政与司法裁判标准不统一等问题，亟需通过立法予以根本性解决。修订后的条例在传统集成电路概念基础上，明确集成光子、量子等功能的集成电路布图设计可受保护，有效回应未来集成电路器件与载体的定性问题，针对集成电路布图设计相关知识产权保护问题作出具有前瞻性、符合技术发展规律的制度安排。
修订后的条例提升集成电路布图设计知识产权保护水平，助力集成电路技术创新发展。集成电路设计位于产业链上游，决定芯片的性能、功耗与竞争力。随着技术演进，光子芯片、量子芯片的产品迭代周期持续缩短，波导布局、量子比特排布、三维异构互连、布图拓扑优化等布图架构日益成为技术竞争的关键领域。修订后的条例将进一步完善前沿集成电路知识产权保护体系，构建与集成电路产业技术创新节奏更加适配的制度。
