国家発展改革委員会、中国人民銀行、国家知識産権局など38の行政機関が、知的財産権侵害罰則の強化に共同で取り組むため、協力の覚書に調印した。
国家発展改革委員会のウェブサイトに掲載されている覚書によると、度重なる特許侵害や特許出願中の文書偽造など、個人や企業による不正行為は両罰の対象となるとのこと。
違法行為者は、法施行の為に政府機関の間で共有され、オンライン上で公開されるなど、ブラックリストで特定される。
出典:新華社通信